Фильтр по товарам
Фильтр по типу «Применение»

Наука о живом

Электроника

Природные ресурсы

Материаловедение

Металлургия

Фильтр по названию
Применить фильтр
Сбросить параметры
Растровый двухлучевой электронный микроскоп  Quanta™ 3D DualBeam™
Разрешение в режиме электронного пучка
до 1.2 нм
Разрешение в режиме ионного пучка
до 7 нм
Versa 3D DualBeam™
Разрешение в режиме электронов
до 0.8 нм
Tecnai™ Transmission Electron Microscope
Разрешение по точкам
0,19 нм
Увеличение
1,000 kx
Morgagni™ Transmission Electron Microscope
Ускоряющее напряжение
40 - 100 кВ
Разрешение
0.45 нм
Certus-3D Wafer
Диаметр обрабатываемого образца
200 мм и 300 мм
Пропускная способность
20 образцов в час
CLM-3D™ Fully-automated Fab
Диаметр обрабатываемого образца
200 мм и 300 мм
Интерфейс
Графический IC3D
Режим работы
Автоматический