Фильтр по товарам
Фильтр по типу «Применение»

Наука о живом

Микроэлектроника

Природные ресурсы

Материаловедение

Фильтр по названию
Применить фильтр
Сбросить параметры
Versa 3D DualBeam™
Разрешение в режиме электронов
до 0.8 нм
Tecnai™ Transmission Electron Microscope
Разрешение по точкам
0,19 нм
Увеличение
1,000 kx
Morgagni™ Transmission Electron Microscope
Ускоряющее напряжение
40 - 100 кВ
Разрешение
0.45 нм
Certus-3D Wafer
Диаметр обрабатываемого образца
200 мм и 300 мм
Пропускная способность
20 образцов в час
CLM-3D™ Fully-automated Fab
Диаметр обрабатываемого образца
200 мм и 300 мм
Интерфейс
Графический IC3D
Режим работы
Автоматический
Defect Analyzer 300 HP
Напряжение электронного пучка
200 В - 30 кВ
Напряжение ионного пучка
5 кВ - 30 кВ
Разрешение в режиме электронов
5 нм
Пользовательский интерфейс
Icon-привод, WindowsTM 2000 GUI